Hitachi台式样本制备系统

... SEM 和 STEM / TEM 用户都知道这个问题：高分辨率成像通常会因观察区域碳膜的快速堆积而受到影响（如果不是完全不可能的话）。这通常是由气态碳氢化合物引起的，它们在观察过程中由于电子束的能量传递而不断沉积。这些碳氢化合物的来源可能是真空室的真空度不理想，通常可以使用高能量输入的等离子清洁器或日立准分子光源 "Sparkle "来改善真空度。 不过，在大多数情况下，观察对象和样品架本身才是主要的污染源。在这种情况下，等离子处理往往过于粗糙，会改变甚至破坏样品。日立用于 ...

... IM4000 II 是一种模块化计算机控制氩离子抛光系统，可根据所需功能配备为纯表面抛光机、截面抛光机或混合系统。离子束能量以 100eV 为单位从 0.1keV 到 6.0keV，可满足从最精细的抛光到较大截面的各种应用需求。在横截面操作中，IM4000 II 在硅材料上的最大去除率可达 500 微米/小时（6keV，掩膜边缘突出 100 微米，平台摆动 ±30°）。可提供自动启动/时间预选、间隔抛光或两级工艺等功能。IM4000 ...

... ArBlade 5000 / IM5000 扩展了 IM4000 II 系列的横切能力，可根据实际需要将横切面宽度扩展至 10 毫米。为此，在横切过程中，样品会在先前登记的加工区域内定期横向移动，同时保持在最佳聚焦位置。还可选择对多个单独位置进行连续加工；选配的多样品支架最多可自动加工 3 个样品。 ArBlade 5000 / IM5000 配备了功能更强大的离子枪，每小时去除率超过 1 毫米。使用 ArBlade 5000-CTC，还可以在可定义的加工温度（低至 ...

... SEM 和 STEM / TEM 用户都知道这个问题：高分辨率成像通常会因观察区域碳膜的快速堆积而受到影响（如果不是完全不可能的话）。这通常是由气态碳氢化合物引起的，它们在观察过程中由于电子束的能量传递而不断沉积。这些碳氢化合物的来源可能是真空室的真空度不理想，通常可以使用高能量输入的等离子清洁器或日立准分子光源 "Sparkle "来改善真空度。 不过，在大多数情况下，观察对象和样品架本身才是主要的污染源。在这种情况下，等离子处理往往过于粗糙，会改变甚至破坏样品。日立用于 ...