打标系统 XENO 4

高品质的光束以及高脉冲峰值功率 激光打标机的打标效果及品质主要取决于激光光束的输出功率及聚焦位置。 cab 激光打标机 XENO 4 是半导体泵浦及气冷式。本设备提供高品质的光束以及高脉冲峰值功率。激光光束源提供 20、30 及 50 瓦的输出功率。 搭配不同型号的平场聚焦透镜，激光打标机 XENO 4 可涵盖的打标区域为 69 x 69 mm 至 290 x 290 mm。 激光打标机 XENO 4 可对塑料、金属以及上漆的表面进行打标作业。 激光打标机 XENO 4 由两个元件组成：激光光束源控制装置及振镜头。振镜头透过光纤与激光光束源连结，可安装于任何一处位置。 内建的对焦器便于工件的定位。 XENO 4 的特色为 轻巧的振镜头设计 打标作业迅速 内建对焦器 可快速调整打标平台 对应工业 4.0 透过 TCP/IP 进行操作及监控 激光光束源控制装置安装于 19 吋的机壳内部。 藉由對焦位置的調整，XENO 4S 可輕易地在零組件上瞬間補正高度差異。 藉由機械單位的調整，零組件上位於不同平面的複雜雕刻內容也能夠在不影響週期時間的情況下完成。 控制裝置按照各自的比例換算成工件上的佈局。對焦位置的調整依據使用的平場聚焦透鏡可至 ±70 mm。