与保健有关的感染,特别是由耐多药有机体引起的感染,对病人的发病率和死亡率产生重大影响,并增加了保健系统的财务负担。 污染的环境表面已被证明是污染物传播的一个重要来源。 有效的清洁和消毒可以减少环境病原体,降低感染风险,但医院环境很复杂,这往往会导致清洁不足。
为了克服这些挑战,引进了诸如紫外线-C 消毒等辅助技术,以提高人工消毒的效力,特别是在与保健有关的感染引起重大关注的医院环境中。 长期以来,UV-C 已被证明是一种有效的技术,通过利用短波长紫外线(UV-C)光杀死或灭活微生物,摧毁核酸并破坏其 DNA,使他们无法发挥重要的细胞功能,从而减少污染和感染的可能性。
市场上有许多具有不同设计的 UV-C 器件。 由于 UV-C 消毒涉及光浪,因此必须确保这些设备在患者环境中最有可能被污染或经常接触的表面 “视线”。 如数项研究所示,UV-C 消毒的功率和速度可能会受到距离和角度的影响。 UV-C 光的强度越远越小,遵循正方形反定律。
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