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生产集成系统 PlasmaPro 100 Nano CVD

生产集成系统 - PlasmaPro 100 Nano CVD - Oxford Instruments/牛津仪器
生产集成系统 - PlasmaPro 100 Nano CVD - Oxford Instruments/牛津仪器
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产品介绍

用于生长1D / 2D纳米材料和异质结构的CVD / PECVD工具。 PlasmaPro 100 Nano通过在线催化剂活化和严格的工艺控制，实现纳米材料的高性能生长。 更佳的均匀性以及灵活的温度范围， 最高可达1200°C 700°C、800°C或1200°C工作台可供选择 样品尺寸可达200mm 真空传送腔——快速更换样品 壁设计并辅以可均匀输送气体/液体源前驱体的喷头 可选的液体/固体源前驱体输送系统，用于生长MOS2、MOSe2和其它TMDCs材料 二维材料 生长 MoS2 生长 石墨烯 生长 一维材料 生长 碳纳米管（CNT）生长 升级/配件 气柜 —— 包含额外的气体管线，提供更大的灵活性 涡轮分子真空泵 —— 提供泵送速度加快气体的流动速度 光学终点探测—— 实现更好工艺结果的重要工具 TEOS液位传感 —— 使用安装在TEOS罐上的超声波液位传感器实现液位传感

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