生产集成系统 Atomfab

Atomfab是市面上沉积速度最快的量产型远程等离子体辅助ALD系统。 提供能满足客户的生产需求的解决方案 低运营维护成本 维护速度快且方便 优异的薄膜均匀性 材料质量高 衬底损伤低 循环时间更短，高产出 可群集和自动化晶片传送 性能 Atomfab的ALD技术可提供精确控制的超薄薄膜，适用于纳米级的高级应用领域，为敏感衬底结构提供保形涂层。 功率器件和射频器件钝化的工艺优势 由我方工程师保证工艺设置 为附加/新工艺提供全寿命工艺支持 低损伤等离子体加工 高质量沉积，低膜污染 低粒子位准 等离子体暴露时间短，高产出 等离子体表面预处理 GaN功率器件和射频器件等离子体ALD的优势 在沉积前进行等离子体预处理以提高界面质量 损伤低，沉积均匀 远程等离子体ALD具有接近零至30 ev的可控离子能量 ALD钝化，Al2O3薄膜栅极介电层。 请阅读白皮书中更多关于ALD优化GaN功率器件的方式的内容。 等离子体 旋转等离子体源：Atomfab使用专门为原子级加工而设计的远程源（专利申请中）。 对敏感衬底损伤低，最大限度提高器件性能 AMU（专利申请中）可缩短等离子体时间(250ms) 启动时间短(80ms)，高产出 启动时间可再现，低反射功率，高产出 全球客户支持 Oxford Instruments致力于为全球客户提供全面、灵活和可靠的支持。我们可在贵司系统的整个生命周期内提供优质服务。 远程诊断软件可快速、轻松诊断和解决故障 可根据预算和具体情况提供支持合同 在全球战略位置提供备件，以实现快速响应