配置图形用户界面及预定义应用的VACUU·SELECT真空控制器能简化实验室工作
自动沸点探测及真空度调节能够缩短反应时间
性能强劲的真空泵能满足使用大多数高沸点溶剂的高真空要求
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优异的环境友好性,极低的能源损耗和高效的溶剂回收率
VARIO® 变频化学真空系统 功能描述
PC 3004 VARIO select EKP真空系统能精确控制真空度,以实现无与伦比的工艺过程控制。该泵抽速大,极限真空度高,适用于要求较高的高沸点溶剂应用。集成式的VACUU·SELECT真空控制器搭配了简单易用、基于应用程序的用户界面,内嵌了所有常见的实验室真空应用。VACUU·SELECT真空控制器可满足您所有要求。对于简易实验过程可手动修改控制参数,也可进行全自动蒸馏,或者通过简单的“拖放”操作编辑创建自己的应用程序。在溶剂蒸发过程中,VACUU·SELECT真空控制器能够持续探测溶剂沸点,并按需自动调节真空过程。 该变频控制方法在保持电机运行不超过所需速度的情况下,同时能保持所需的真空度。这能防止碰撞和起泡,使泵运行安静,延长维护间隔时间。进气口分离瓶由玻璃制成,外覆一层保护膜,能防止颗粒和液滴进入泵内,防止泵损坏,延长泵的使用寿命。搭配Peltronic出气口废气冷凝器的PC 3004 VARIO select EKP无需连接冷凝水或者使用干冰即可实现溶剂高回收率。 主要应用于蒸发工艺。蒸发过程可以完全自动运行,过程时间更短,而且对很难区分的混合物有非常好的灵敏性。VARIO®控制可防止过热或者起泡,确保了过程的可靠性。它随时根据不断变化的过程参数来自动调节真空度,不断自我调节。这样操作完全不需要输入参数或者使用溶剂数据库。而且在许多其他应用及在实验室真空网路中, VARIO®变频控制可一直处在最佳抽速,因此有更多好处。VACUU·BUS®系统使连接非常容易,即使针对复杂的真空配置。
技术数据和图表
噪音水平 50 Hz/1500 Upm/62% (VARIO)/1500 Upm (VARIO-SP)/12500 Upm (VACUU·PURE®) - 43 dBA -
ATEX-认证 - II 3/- G Ex h IIC T3 Gc X Internal Atm. only -
NRTL 标准 - 否 -
提供的选项 - 配Peltronic出气口冷凝器真空系统,带操作说明书,不带电源线。
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标称电压范围1 - 200-230 V -
电源频率1 - 50-60 Hz -
通讯 - Ethernet (RJ45): Modbus TCP / USB (Type A): Data transfer, software update, RS-232 (additional adapter required)